適用製品
多孔質非晶質セレン膜、撮像装置、多孔質非晶質セレン膜の製造方法、撮像装置の製造方法
目的
電子線が照射されても飛散しにくい材料およびその製造方法を提供すること。
効果
多孔質非晶質セレン膜に電子線が照射されると、多孔質非晶質セレン膜の有する多数の細孔に、電子線が乱反射されながら吸収される。このため、本発明の多孔質非晶質セレン膜は、電子線が照射されても飛散しにくい。したがって、本発明の多孔質非晶質セレン膜は、電子ビームランディング層および電子顕微鏡観察試料の帯電防止層の材料として好適である。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
