適用製品
多層グラフェンの製造方法及び多層グラフェン積層体
目的
新たな方式により多層グラフェンの製造方法を得ること。
効果
層交換と言う新たな方式により多層グラフェンを製造できる。
この多層グラフェン膜の製造方法によると、任意の基板上に多層グラフェン膜を低温で製造することができる。そのため、集積回路の電極、ヒートスプレッダー、蓄電池の電極等の種々の電子デバイスの分野に利用できる。
技術概要
任意基板上に、炭素と化合物を形成せず炭素に固溶可能な金属を成膜し、金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜上に、非晶質のカーボン膜を成膜するカーボン膜形成工程と、
前記基板、前記金属膜及び前記カーボン膜が順に積層された積層体を加熱し、前記金属膜と前記カーボン膜を層交換すると共に、前記カーボン膜を結晶化する層交換工程と、
前記層交換工程により表面に露出した前記金属膜を除去する除去工程と、を含む、多層グラフェンの製造方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
