SiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタ

開放特許情報番号:L2018002500 開放特許情報登録日:2018/12/12 最新更新日:2023/1/23

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2016/5/27
公開日
2017/11/30
出願人
国立大学法人京都大学
特許権者
国立大学法人京都大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
SiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタ
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
SiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタ
目的
高温で安定に動作可能で、消費電力が極めて小さく、かつ作製が容易な、ノーマリオフ型のSiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタを提供すること。
効果
高温で安定に動作可能で、消費電力が極めて小さく、かつ作製が容易な、ノーマリオフ型のSiC接合型電界効果トランジスタ及びSiC相補型接合型電界効果トランジスタを提供することができる。
技術概要
半絶縁性SiC基板と、
前記半絶縁性SiC基板の主面に形成された第1導電型のチャネル領域と、
前記チャネル領域の主面に形成された第2導電型のゲート領域と、
前記チャネル領域の主面であって、前記ゲート領域を挟んで形成された第1導電型のソース領域及びドレイン領域と
を備えたノーマリオフ型のSiC接合型電界効果トランジスタであって、
前記チャネル領域の不純物濃度をN(cm↑−3)、前記ゲート領域下における前記チャネル領域の厚さをD(cm)としたとき、ND↑2<3×10↑7cm↑−1を満たすことを特徴とするSiC接合型電界効果トランジスタ。
アピール内容
京都大学「産学連携情報プラットフォーム(フィロ)」をご紹介します。
産学連携の新たな取り組みなど、有益な情報を発信しています。

https://philo.saci.kyoto-u.ac.jp/
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
固定URLをクリップボードにコピーしました。
Copyright © INPIT Rights Reserved