目的
犠牲層を用いることなくアディティブ法により、低環境負荷で工程が簡便な中空構造体の製造方法を提供する。
効果
本発明によれば、中空構造体を低環境負荷で製造でき、また省工程で形成できる。
技術概要
転写用基材の表面に形成された低表面エネルギー材料層上に、樹脂を含むインクを塗布する工程と、塗布したインクを樹脂含有層にする樹脂含有層形成工程と、樹脂含有層を、接着部を用いて、基材に転写することにより、樹脂含有層と基材との間に一部が開放された空間を有する中空構造体を形成する転写工程とにより、中空構造体を製造する。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
