目的
磁性細線で記録媒体のトラックや空間光変調器の画素が形成され、誤動作し難い磁性細線搭載基板について、微細化を可能とする製造方法を提供する。
効果
磁性細線に形状や飽和磁化の変化した狭小な領域が精度よく形成されて、かかる領域に磁壁が適度にかつ安定して係止して、磁性細線へのパルス電流の供給により正確に磁区の位置を制御することができ、ビット長や画素が微細化されても誤動作し難い磁気記録媒体や空間光変調器を、容易にかつ生産性よく製造することができる。
技術概要
磁性細線搭載基板１０の製造方法は、基板２上に複数の磁性細線１を形成する磁性細線形成工程と、複数の磁性細線１上に樹脂膜９を設け、ナノインプリント法により、樹脂膜９の表面にすべての磁性細線１の直上にわたって細線幅方向に延びた溝部９ｃを形成するマスク形成工程と、樹脂膜９をマスクとしてエッチングすることにより、それぞれの磁性細線１に樹脂膜９の溝部９ｃの直下に凹部１ｃを形成する磁性細線表面エッチング工程と、を行う。磁性細線１における磁区のシフト移動の際に、磁区を区切る磁壁を係止するための凹部１ｃが、高い寸法精度で形成されるので、動作が安定する。
基本情報
開放特許情報
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