適用製品
マグネトロンスパッタリング装置、及び、磁場形成装置
目的
マグネトロンスパッタ法を用いたスパッタリング装置を簡略化する。
効果
ターゲット表面の広範囲にプラズマを発生させるマグネトロンスパッタリング装置の構成を簡略化するという優れた効果を奏する。
技術概要
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に配置されるスパッタリングターゲットと、
前記スパッタリングターゲットの裏面側に配置されて前記スパッタリングターゲットの中央部および外縁部の近傍においてそれぞれ異なる極性の磁極を備えることにより前記スパッタリングターゲットの中央部および外縁部と交差して前記スパッタリングターゲットの表面側に膨出するループ状磁束を形成する内環状磁石と、
前記スパッタリングターゲットの裏面側における前記内環状磁石の外側に配置されて前記スパッタリングターゲットの外縁近傍における前記ループ状磁束を調整する外環状磁石と、
前記内環状磁石および前記外環状磁石を保持するヨークと
を具備するマグネトロンスパッタリング装置。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
