適用製品
光源生成薄膜およびその製造方法、微小光源励起装置および光学顕微鏡
目的
電子ビームによる試料への損傷を抑制するとともに、観察像のＳ／Ｎ比が向上し、さらに空間分解能の低下が抑制された光源生成薄膜、微小光源励起装置、光学顕微鏡、および光源生成薄膜の製造方法を提供すること。
効果
電子ビームによる試料への損傷を抑制するとともに、観察像のＳ／Ｎ比が向上し、さらに空間分解能の低下が抑制された光源生成薄膜、微小光源励起装置、光学顕微鏡、および光源生成薄膜の製造方法を提供することが可能になる、という効果を奏する。
技術概要
基板と、
前記基板に形成された貫通孔と、
前記基板の第１の主面上に前記貫通孔を覆い、かつ可視光の波長未満の膜厚で設けられるとともに、前記基板の前記第１の主面とは反対側の第２の主面側から前記貫通孔を通って照射される電子ビームにより可視光の波長未満の大きさの微小光源が励起される発光薄膜と、
前記発光薄膜上に形成されるとともに、前記微小光源からの光を透過しかつ前記電子ビームを遮蔽する金属薄膜と、
を備える光源生成薄膜。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
