ホウ素ドープダイヤモンド

開放特許情報番号:L2016001565 開放特許情報登録日:2016/10/27 最新更新日:2022/4/1

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2016/7/19
公開日
2018/1/25
出願人
国立研究開発法人産業技術総合研究所
特許権者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
ホウ素ドープダイヤモンド
開放特許情報
技術分野
無機材料 化学・薬品 金属材料
機能
材料・素材の製造
適用製品
ホウ素ドープダイヤモンド
目的
ホウ素を高濃度で含んでいるにも拘わらず、電気抵抗値が小さい、ホウ素ドープダイヤモンドの提供。
効果
ホウ素を高濃度で含んでいるにも拘わらず、電気抵抗値の小さいホウ素ドープダイヤモンドを提供することができる。
技術概要
ダイヤモンドにホウ素がドープされている、ホウ素ドープダイヤモンドであって、二次イオン質量分析法で測定したホウ素濃度が、1×1019cm-3超、1×1022cm-3以下の範囲にあり、X線吸収微細構造解析(NEXAFS)によって測定される、X線光子エネルギー288eV〜290eVの範囲に位置するダイヤモンドコアエキシントンのピーク強度Aと、X線光子エネルギー286.2eV〜288.5eVの範囲におけるピーク強度面積Bとの比(B/A)が、0.30以下である、ホウ素ドープダイヤモンド。前記ホウ素ドープダイヤモンドは、熱フィラメントCVD法により好適に製造することができる。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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