目的
粒子線を照射するのに必要な時間を短縮できる粒子線照射制御装置およびその制御方法を提供する。
効果
粒子線を照射するのに必要な時間を短縮することが可能な粒子線照射制御装置および粒子線照射制御方法を実現できる。
技術概要
粒子線のビームｂの照射中に呼吸性の移動を伴う動体標的の位置を監視する呼吸同期装置Ｓ１と、動体標的の位置の情報を予め取得し、移動位置の情報に基づいて動体標的が、照射領域Ｃ１に入ったと判定される場合にはビーム出射要求信号を出力し、ビーム照射可能な照射領域Ｃ１に入る直前Ｃ２であると判定される場合にはビーム出射直前予測信号を出力する照射制御装置Ｓ２と、加速器１と出射ビーム輸送ライン２Ｂの出射用機器２ｓを制御し、ビーム出射要求信号のオン／オフに同期してビーム出射の開始／停止に切り替え、ビーム出射直前予測信号を受けた場合、出射用機器２ｓのビームｂの出射の準備を開始する制御を行うビーム出射制御装置Ｔｓとを備える。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
