SiC単結晶の製造方法

開放特許情報番号:L2016000421 開放特許情報登録日:2016/3/28 最新更新日:2019/11/25

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2015/9/30
公開日
2017/4/6
出願人
国立大学法人信州大学
特許権者
国立大学法人信州大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
SiC単結晶の製造方法
開放特許情報
技術分野
無機材料
機能
材料・素材の製造
適用製品
SiC単結晶の製造方法
目的
SiC単結晶を育成する工程中において、溶液中のSiとCの組成比が変化することを抑え、高品質のSiC単結晶が得られる製造方法を提供する。
効果
本発明に係るSiC単結晶の製造方法によれば、結晶育成工程において、溶液中のSiとCの組成比を変えずにSiC単結晶を製造することができる。溶液中のSiとCの組成比が変化しないことにより、高品質のSiC単結晶が製造できる。
技術概要
SiCからなる材料を使用し、前記材料と溶剤金属とを用いて、溶液法によりSiCの単結晶を製造する方法であって、前記材料の上に前記溶剤金属を配置して加熱し、前記材料の上部に前記溶融金属の融液を位置させ、前記溶剤金属の融液にSiCの種結晶を接触させ、前記溶剤金属の融液中に前記材料からSiとCを溶出させることにより、前記種結晶にSiCを析出させてSiCの単結晶を成長させることを特徴とするSiC単結晶の製造方法。
アピール内容
譲渡についての可・不可はその時の状況によります。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
登録者名称
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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