適用製品
マイクロ波プラズマ源を用いた窒素化合物の製造方法及び製造装置
目的
窒素系ガス（窒素ガスやアンモニアガス等）をプラズマ状態とし、高密度の窒素系活性種(以下「窒素系ラジカル」ともいう。)を基材に照射する、窒素化合物を製造する方法及び装置を提供する。
従来より低温で形成可能な窒素化合物の製造方法及び製造装置を提供する。
より高圧プロセスで消費電力の少ない、窒素化合物の製造方法及び製造装置を提供する。
効果
ライン状に高密度の窒素系活性種を基材に供給することが可能となり、プラズマ源を複数並列に配置だけで、大面積化に対応をすることが可能となる。また、基材を前後左右又は回転等により適宜移動させることが容易にでき、これにより、基材表面の窒化一様性が可能となる。
技術概要
マイクロ波プラズマを生成して窒素化合物を製造する窒素化合物の製造方法であって、
ノズルから窒素系ガスを含む原料ガスを基材の表面に流量を制御して吹き出しながら、前記原料ガスにマイクロ波を印加することにより、前記原料ガスから生成される窒素系活性種を含むプラズマを前記基材の表面に向かって照射する工程において、圧力を前記プラズマにおけるイオンの平均自由行程がデバイ長より小さくなる圧力より高く設定することを特徴とする窒素化合物の製造方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
