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被印刷基材の表面構造及びその製造方法　

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開放特許情報番号：L2016000133 開放特許情報登録日：2016/1/28 最新更新日：2021/10/28

基本情報
出願番号
特願2017-546539
公開番号
WO2017/069081
登録番号
特許第6938024号
出願日
2016/10/17
公開日
2017/4/27
出願人
国立研究開発法人産業技術総合研究所
特許権者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
被印刷基材の表面構造及びその製造方法
開放特許情報
技術分野
機械・加工
機能
機械・部品の製造
適用製品
被印刷基材
目的
低コストで、しかも、印刷工程を変更することなく、高精細、高アスペクト比の印刷を可能にすること。
効果
1μm以下の高解像印刷が可能。
技術概要
被印刷基材に微細な構造を形成し、局所的に表面濡れ性を制御し、スクリーン印刷装置やインクジェット装置などの液体状印刷装置を用いて、高精細、高アスペクト比の印刷を実現する。
イメージ図
実施実績　　　：
無
許諾実績　：
無
特許権譲渡　　：
否
特許権実施許諾：
可
登録者情報
その他の情報
関連特許
（国内）: 無
（国外）: 無
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