目的
柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成されたサーミスタを提供する。
効果
本発明によれば、柔軟性を備えるとともに、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜が形成できる。
技術概要
サーミスタの製造方法は、成膜工程と、第一照射工程と、第二照射工程とを備えている。成膜工程では、粒径が１μｍ未満である酸化物ナノ粒子を含有する分散液を基材に塗布し、サーミスタ前駆体膜を形成する。第一照射工程では、１０ｍＪ／ｃｍ↑2〜４０ｍＪ／ｃｍ↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ前駆体膜に照射してサーミスタ中間体膜を得る。第二照射工程では、４５ｍＪ／ｃｍ↑2〜７０ｍＪ／ｃｍ↑2のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ中間体膜に照射してサーミスタ膜を得る。この方法によって、柔軟性を備え、耐熱温度が２００℃以下である基材にサーミスタ膜が形成できる。
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