目的
電子デバイス製造装置等から排出される排ガスなどの被測定ガス中のフッ素濃度を測定するに際して、測定毎に装置の校正を行うなどの手間が軽減され、妨害成分の影響を簡単に排除でき、正確な濃度を測定できる測定方法を提供する。
効果
フッ素ガスは波長280〜290nm帯において吸収を示し、また赤外活性ではないので、紫外線分光光度計により濃度を正確に測定できる。また、紫外分光光度計では、予めフッ素ガスの検量線を作製しておけば、測定の都度校正をする必要はない。
技術概要
フッ素ガスと波長280〜290nm帯において吸収を示す成分が含まれた被測定ガスに導き、ガス中の同波長帯の吸光度を測定して、ガス中の同波長帯で光吸収を示す成分の濃度を求めるＵＶ計と、該ガス中の同波長帯に光吸収を示すとともに赤外活性成分の定量を行うFT-IR計と、ガスをUV計とFT-IR計に導く被測定ガス供給管路と、UV計に同波長帯において吸収を示さないガスを供給するレファレンスガス供給源を備え、UV計で得られた同波長帯で光吸収を示す成分の濃度の表示値から、FT-IR計で得られた同波長帯に光吸収を示すとともに赤外活性である成分の濃度を減じて、ガス中のフッ素ガス濃度を求める。
基本情報
開放特許情報
登録者情報
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