目的
真空環境下で、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽―射出を制御し、所望の薄膜、多層膜や多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置を提供すること。
効果
蒸発源のオリフィスに付けて、例えば１／１０００秒〜１／１００秒程度の超高速でシャッター開閉を実行することができ、射出量の制御された分子等の物質を複数種類について時間を区分して堆積させることが可能となる。
従来装置と比較して短時間で実用的な、膜厚のデバイスを創製することが可能となる。
技術概要
真空中で蒸発源２０より発生する粒子流を制御する蒸着用シャッター装置３０であって、蒸発源２０を覆う状態に装着されると共に、中央部に開口部を有する筐体部３２と、筐体部３２の中央部に設けられたシャッター部材４０であって、少なくとも２枚以上の羽根部により前記開口部を全閉した状態と全開した状態の少なくとも一方の姿勢を有するシャッター部材４０と、シャッター部材４０の開閉状態と連動する開閉状態操作部４４と、開閉状態操作部４４の開閉状態を操作する開閉状態駆動部５０とを備えるものである。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
