目的
小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができるプラズマエッチング装置を提供する。
効果
ステージにウェハを設置させた状態でチャンバ内を真空引き部にて真空引きしつつ、ガス供給部へエッチングガスを供給し、このガス供給部からウェハにエッチングガスを供給するに際し、ステージに設置されるウェハを含む領域にステージプラズマ部にてプラズマを発生させ、エッチングガスをイオン化およびラジカル化させることができる。よって、ウェハに吹き付けられる直前のエッチングガスをイオン化およびラジカル化できるため、比較的小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができる。
技術概要
ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、
このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、
前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられエッチングガスをウェハに吹き付けるための管状のガス供給部と、
前記ステージに設けられ、このステージに設置されるウェハを含む領域にプラズマを発生させてエッチングガスをイオン化およびラジカル化させるステージプラズマ発生部と、
を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
