目的
小さなウェハであっても精度良くエッチングできるプラズマエッチング装置を提供する。
効果
ステージにウェハを設置させた状態でチャンバ内を真空引き部にて真空引きしつつ、ガス供給部へエッチングガスを供給し、このガス供給部内のエッチングガス中にノズルプラズマ発生部にてマイクロプラズマを発生させる際、マイクロプラズマ発生部で生成されるラジカルをウェハの表面まで効率良く輸送でき、また、エッチングガスを略均等に吹き付けさせるノズルのガス輸送効果も加わり、結果として、ラジカルをウェハに均等に吹き付けることができるから、比較的小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができる。
技術概要
ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、
このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、
前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられた管状のガス供給部と、
このガス供給部の先端側の内部に取り付けられ、このガス供給部から供給されるエッチングガスを前記ウェハへ略均等に吹き付けさせるノズルと、
前記ガス供給部に取り付けられ、このガス供給部内のエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させるとともにラジカルを生成させるノズルプラズマ発生部と、
を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
