導電性薄膜の製造方法及び該方法により製造された導電性薄膜

開放特許情報番号:L2012002892 開放特許情報登録日:2012/10/8 最新更新日:2017/9/27

基本情報
出願番号
公開番号
WO2014/021344
登録番号
出願日
2013/7/30
公開日
2014/2/6
出願人
国立研究開発法人産業技術総合研究所
特許権者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
導電性薄膜の製造方法及び該方法により製造された導電性薄膜
開放特許情報
技術分野
電気・電子 化学・薬品 輸送
機能
材料・素材の製造
適用製品
導電性薄膜の製造方法、導電性薄膜
目的
カーボンナノチューブが均一に分散した状態で存在し、膜厚および光透過性が均一で、かつ高い導電性を有する導電性薄膜の作成法およびそのように作成された導電性薄膜の提供。
効果
本発明におけるカーボンナノチューブ含有薄膜は、ドクターブレード法やスクリーン印刷法などで簡便にカーボンナノチューブが均一に分散した状態で存在した状態で作製することができ、膜厚および光透過性の調整が容易で、かつ、該カーボンナノチューブ含有薄膜からマトリックスを除去することにより、カーボンナノチューブが本来有している高い導電性ないし半導体特性、および優れた屈曲性を十分に発揮させることができることから、透明電極、フレキシブル電極として極めて有用である。
技術概要
セルロース誘導体からなる非導電性マトリックス中にカーボンナノチューブが相互に分離した状態で分散しているカーボンナノチューブ含有薄膜から非導電性マトリックスを除去して導電性薄膜を製造する方法であって、
前記カーボンナノチューブ含有薄膜を貧溶媒で処理することにより非導電性マトリックスを除去することを特徴とする導電性薄膜の製造方法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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