膜厚分布測定装置

開放特許情報番号:L2011001826 開放特許情報登録日:2011/3/25 最新更新日:2020/10/21

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2008/2/13
公開日
2009/8/27
出願人
国立大学法人名古屋大学
特許権者
国立大学法人東海国立大学機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
膜厚分布測定装置
開放特許情報
技術分野
その他
機能
検査・検出
適用製品
膜厚分布測定装置
目的
薄膜の微小構造を高いコントラストで観測でき、かつ膜厚を定量的に測定することができる膜厚分布測定装置を提供する。
効果
薄膜の微小構造を高いコントラストで観測でき、かつ膜厚を定量的に測定することができる。
技術概要
このエリプソメトリー顕微鏡1は、光源2と偏光子5と位相補償子6と対物レンズ8とを備え試料Sを所定角で照明する斜め照明系と、対物レンズ8と結像レンズ15と検光子16とにより試料Sを撮像装置17の検出面18に検出する結像系とを備え、被写体に対向した対物レンズ8と、当該被写体の像を結像する結像レンズ15とを有した結像系と、結像系に設けられた検光子16と、同結像系により結像した像を検出面で検出する撮像装置17と、光源2と、対物レンズ8の光軸とその光軸をずらし、その焦点面を対物レンズ8の後側焦点面と一致するように配置して、光源からの光を集光する集光レンズとを有し、対物レンズを介して被写体をp偏光に対する反射率がおおむね最小となるような入射角で平行光を照明する斜め照明系と、斜め照明系の光路に設けられた偏光子と、同斜め照明系の偏光子と被写体の間に設けられた位相補償子とを備えた膜厚分布測定装置である。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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