自己組織化単分子膜の作製方法とその利用

開放特許情報番号:L2011001069 開放特許情報登録日:2011/2/25 最新更新日:2020/10/21

基本情報
出願番号
公開番号
WO2006/112408
登録番号
出願日
2006/4/14
公開日
2006/10/26
出願人
国立大学法人名古屋大学
特許権者
国立大学法人東海国立大学機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
自己組織化単分子膜の作製方法とその利用
開放特許情報
技術分野
金属材料
機能
制御・ソフトウェア
適用製品
アルコキシシラン、SAM形成材料
目的
液相法により形成されたSAMに近似した性質(例えば接触角の大きさ)を示すSAMを気相法で作製する方法の提供。
効果
本技術によれば、基材表面に高品質のSAMを、化学蒸着(気相法)によって作製することができる。また、ここに開示される方法により作製されるSAMまたはここに開示される膜材料を構成するSAMは、高密度(高被覆率)であることから、良好な撥水性、親水性、潤滑性等を示すものであり得る。
技術概要
この技術の基材にSAM形成材料を化学蒸着することによって基材上にSAM(自己組織化単分子膜)を作製する方法では、化学蒸着の際に、(1).雰囲気ガスの湿度(25℃における相対湿度)を30%以下とする。また、(2).雰囲気温度を60℃以上とする。さらに、(3).蒸着を開始する時点における基材の表面温度を室温よりも高くする。(1)〜(3)をいずれも満たすように化学蒸着(典型的には熱CVD)を行うことによって、より品質の良い(例えば、より高密度の)SAMが形成され得る。例えば、同種のSAM形成材料を用いて液相法により形成されたSAMと比較して、液相法SAMにより近い性質(例えば接触角の大きさ)を示すSAMを作製することができる。この雰囲気ガス湿度が(1)〜(3)の範囲よりも多すぎると得られるSAMの密度が低くなりがちとなり、予想した性質を示すSAMが得られにくくなる。
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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