適用製品
鏡面研磨、研磨方法、研磨装置、炭化珪素、サファイア
目的
ＳｉＣやサファイアのような難加工材を高能率で、かつ、高品位の面に研磨することができる研磨方法の提供。
効果
この技術の研磨方法及び研磨装置では、ＳｉＣやサファイアのような難加工材を対象とする場合でも、高能率、かつ、高品位での研磨が可能である。
技術概要
この技術では、酸素を含む加工雰囲気の圧力が制御できる容器の中で、活性酸素を発生させながら、被加工物を研磨する。また、酸素を含む加工雰囲気の圧力を大気圧よりも高く設定し、加工雰囲気の中で、光触媒を含むスラリーを用いて、紫外線を照射しながら被加工物を研磨する。また、炭化珪素、サファイア、窒化珪素、または、窒化ガリウムの結晶を被加工物とすることができる。また、光触媒としてチタニア（ＴｉＯ２）の粒子を用い、スラリー中のＴｉＯ２の含有量を０．１ｗｔ％から１０．０ｗｔ％の範囲内に設定する。また、紫外線の強度を５ｍＷ／ｃｍ↑２以上に設定する。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
