適用製品
レーザスペックルによるナノメートル変位測定装置
目的
簡単な光学系及び装置により、測定精度が高く処理も容易なレーザスペックルによるナノメートル変位測定方法と装置を提供する。
効果
レーザ光のスペックル干渉による干渉縞間の光強度の変化を利用して、光センサの出力変化により変位測定を行っているので、測定感度がレーザ光の波長以下となり、容易にナノメートルオーダーの測定を行うことができるものである。また、光センサの出力を変位に換算するだけであり、コンピュータ等による処理が容易であり、簡単な装置で高速にリアルタイムの計測が可能となる。
技術概要
レーザ光源１２と、このレーザ光を１点に収束させるレンズ１４と、レーザ光源１２からのレーザ光を分岐するビームスプリッタ１６と、このビームスプリッタ１６で分岐した一方のレーザ光が照射される参照粗面１８と、レーザ光の他方が照射される測定粗面２０と、参照粗面１８と測定粗面２０とから反射した各レーザ光がビームスプリッタ１６を介して重なりスペックル干渉した光を受光する光センサ２２と、参照粗面１８を変位させる変位装置を備え、参照粗面１８を所定量ずつ変位させ、スペックル干渉光の入射による光センサ２２の出力の最大値と最小値の間で、ほぼ直線的に出力値が変化する電圧範囲を測定範囲としてこの測定範囲における検出変位の感度を算出し、電圧範囲のほぼ中央の出力値を得る位置に参照粗面１８を固定し、光センサの出力電圧の変化により測定粗面２０の変位を求めるレーザスペックルによるナノメートル変位測定方法である。光センサ２２の出力電圧の変化により測定粗面２０の変位を求めるコンピュータ２６を備える。
改善効果１
測定粗面の変位にあわせて参照粗面を変位させる場合、測定感度は変位装置の分解能に依存し、測定範囲は変位装置の移動範囲となり、測定範囲が広くなる。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
