目的
良好なフレキシブル性を有する構造体の製造方法などを提供する。
効果
良好なフレキシブル性を有する構造体の製造方法、構造体を提供できる。酸化スズの微細構造体を所望のパターンに形成することができる構造体の製造方法、構造体を提供できる。
技術概要
基材と、基材上に設けられる導電膜と、導電膜上に設けられる酸化スズの微細構造体とを備える構造体の製造方法は、基材としてＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）などの高分子基材を用いる。導電膜の表面の一部を表面処理し、所定のスズイオン含有溶液に対して濡れ性の異なる領域を導電膜の表面に設けた後に、導電膜の表面をスズイオン含有溶液に接触させ、スズイオン含有溶液から酸化スズのナノ結晶を濡れ性の高い領域に選択的に析出成長させて、酸化スズの微細構造体を形成する。表面処理は、露光処理である。導電膜の種類は、例えば、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）膜、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）膜などが挙げられる。導電膜は、酸化スズの微細構造体との密着性を向上するため、酸化スズを含んでいることが好ましい。基材と、基材上に設けられる導電膜と、導電膜上に設けられる酸化スズの微細構造体とを備える構造体において、基材は高分子基材である。酸化スズの微細構造体は、所定のパターンに形成されている。
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開放特許情報
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