光伝送体及びその製造方法

開放特許情報番号:L2009006193 開放特許情報登録日:2009/10/30 最新更新日:2022/9/1

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2008/3/3
公開日
2009/9/17
出願人
独立行政法人科学技術振興機構
特許権者
国立研究開発法人科学技術振興機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
光伝送体及びその製造方法
開放特許情報
技術分野
情報・通信 有機材料
機能
機械・部品の製造 材料・素材の製造
適用製品
光ファイバ
目的
この発明は、従来の光伝送体の光学特性を維持しつつ、耐熱性に優れた光伝送体及びその製造方法を提供する。
効果
この発明によれば、従来の光伝送体の光学特性をもち、かつ、耐熱性により優れた光伝送体を製造することができる。
技術概要
光伝送体として用いられるプラスチック光ファイバには、ドーパント(屈折率上昇剤添加)タイプと共重合タイプがあるが、一般にはドーパントタイプの光ファイバの方が優れている。しかし、ドーパントタイプの光ファイバには耐熱性の問題がある。 この発明の光ファイバは、コアとクラッドから構成されており、コアにはポリメチルメタクリレート(PMMA)にドーパントが添加されており、外周のクラッドは、ポリメチルメタクリレートが使用されており、その屈折率はコアの屈折率より低い値に形成されている。コアにはドーパントとしてジベンゾフェン(DBT)、または9−ブロモフェナントレン(BPT)が用いられ、コアの中央部のドーパント含有率が3以上25以下の範囲で、コアの外周部の方向にいくに従い濃度が連続的に低くされ、外周部のドーパント含有率がゼロになっていることが好ましい。この様にドーパントとして、DBT或いはBPTを用いることによってPMMAのガラス転移温度以下に低下することが防止され、プラスチック光ファイバの耐熱性を向上させることができる。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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