適用製品
光硬化材料、光記録材料、レーザーダイレクトイメージングによるパターン形成、半導体加工、光を吸収することによって酸を発生する材料
目的
印刷版及びプリント基板製造分野においては、レーザーダイレクトイメージング技術の普及加速化に伴い、可視光レーザー対応高感度光開始系の構築が切望されていること、酸素阻害の影響がなく、ネガおよびポジ型のリソグラフィー材料をつくれる自由度のある高感度光酸発生系による反応開始材料が求められていたが、十分な感度をもつ光酸発生剤がなかったことの改善。
効果
オキシム系光酸発生剤分子の直接光励起による酸発生効率より、増感剤とオキシム系光酸発生剤による組み合わせは、およそ１０倍以上の酸の発生を示す。これは、電子移動反応、ここでは増感剤による光電子移動反応によってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが特異的に高効率で酸を発生するものと認められる。理論的な分子モデリングからＮ−Ｏ結合付近にラジカルスピン密度が局在化することにより、結合開裂が高効率で生じると考えられる。
技術概要
この技術は、増感剤とさまざまな酸発生剤についてその増感機構やフォトリソグラフィー材料としての感度を研究したところ、光励起された増感剤からの電子移動によって生成するオキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンからの酸発生が異様に高いことを見出したことに基づく。すなわち、増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される光酸発生材料である。ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした光酸発生材料である。光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、Ｎ−Ｏ結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じるオキシム系光酸発生剤である。
基本情報
開放特許情報
登録者情報
その他の情報
