有機薄膜トランジスタ及びその製造方法。

開放特許情報番号:L2009001669 開放特許情報登録日:2009/3/14 最新更新日:2025/3/26

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2006/8/4
公開日
2008/2/21
出願人
国立大学法人 千葉大学
特許権者
国立大学法人 千葉大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
有機薄膜トランジスタ及びその製造方法。
開放特許情報
技術分野
電気・電子 有機材料
機能
材料・素材の製造
適用製品
有機薄膜トランジスタ
目的
より簡便な構成で、より高性能な有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、更にはそれを用いた電子機器を提供する。
効果
簡便な構成で、より高性能な有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、更にはそれを用いた電子機器を提供することができる。
技術概要
ゲート電極と、ゲート電極を覆い、複数の凹部が形成されるゲート絶縁膜と、複数の凹部に配置されるソース電極及びドレイン電極と、ソース電極及びドレイン電極の間の領域に配置され、ソース電極及びドレイン電極に接続される有機半導体層と、ソース電極及び、ドレイン電極、を有する有機薄膜トランジスタである。図に示すように、この有機薄膜トランジスタ1は、基板2と、この基板2上に形成されるゲート電極3と、基板2及びゲート電極3を覆って形成され、凹部41a、bが形成されるゲート絶縁膜4と、ゲート絶縁膜4の凹部41aに形成されるソース電極5と、ゲート絶縁膜4の凹部41bに形成されるドレイン電極6と、ソース電極5、ドレイン電極6及びこれらの間の領域(チャネル領域)を覆って形成される有機半導体層7と、ソース電極5、ドレイン電極6及び有機半導体層7を保護する保護膜8と、を有して形成される。基板2は、例えばシリコン、ガラス、プラスチックフィルムを好適に用いることができる。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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