目的
この発明は、照射時間を短縮し、照射対象に対する時間の負荷を軽減させ、照射精度を向上させた粒子線照射システムを提供する。
効果
この発明の粒子線照射システムは、照射対象の周期変動の変位量が所定位相内にあるゲート期間に、各スキャン領域に対してスキャニング照射するようにしたので照射対象の周期変動と同期が取れ、スキャニング領域の断面の大きさに応じて荷電粒子ビームの強度を変調し、複数回スキャニング照射するようにしたので、短時間内に精度良く照射が完了できるようになった。
技術概要
従来、癌患者に対して放射線治療を行う場合、線量分布が平坦で均一になるようにスキャン回数を増やし、照射時間を長くする、またはビーム強度を弱くし、照射時間を長くする必要があった。この発明の粒子照射線システムは、加速器、輸送系、照射装置、ターゲット部、加速度強度変調装置、制御装置、患者の呼吸性変動監視装置から構成されている。この操作は図に示されるフローチャートに従って行われる。ステップＳ１は、呼吸性変動監視措置で患者の呼吸パターンを照射前または照射中に測定する。ステップＳ２は、ターゲット部を分割したスキャン領域の大きさに応じて荷電粒子ビームの強度を変調する。ステップＳ３は、呼吸パターンの変位量が所定閾値以下になるゲート期間を検出する。ステップＳ４は、ゲート期間Ｔをリスキャン回数Ｎで割った分割期間にスキャン領域に対してスキャニング照射する。ステップＳ５は、回数がリスキャニング回数Ｎに達したかどうかを判定する。ステップＳ６では、全てのスライスにリスキャニング照射が終了したことを確認し終了する。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
