適用製品
マスク膜、フォトレジスト、レジストパターン
目的
微細な開口部を有する基板の開口部の気泡を十分に除去することのできる脱泡装置等の提供。
効果
本技術によれば、フォトレジストなどを用いて形成した微細なレジストパターンの開口部内へ湿式処理を行うときに、開口部内に付着する気泡を除去するための脱泡装置、および脱泡装置を用いた気泡除去方法、および気泡除去方法を用いるめっき方法、およびめっき方法により形成された微少金属構造体を提供することができる。
技術概要
この技術の脱泡装置は、パターン基板である基板が固定された治具が浸漬される処理溶液が蓄えられている溶液槽と、パターン基板に処理溶液を吹き付ける吹き付け部であるシャワーヘッド群が配設されたシャワーヘッドパイプと、シャワーヘッドパイプを上下に移動する吹き付け部移動部であるシャワーヘッド移動部と、パターン基板が固定された治具に衝撃を加える衝撃付与部である治具殴打部とを有する。さらに、脱泡装置のシャワーヘッドパイプには、処理溶液を複数のシャワーヘッドからなるシャワーヘッド群から吹き付けるために、ポンプが接続されている。処理溶液は、溶液槽の底部からバルブを介してポンプに送液され、さらにフィルタおよび流量計を介して、シャワーヘッド群から基板の基板面に略垂直に吹き付けられる。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
