ホウ素ナノ粒子又はホウ素含有ナノ粒子及びその製造方法

開放特許情報番号:L2008004298 開放特許情報登録日:2008/8/15 最新更新日:2015/9/21

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2008/3/21
公開日
2008/11/6
出願人
独立行政法人産業技術総合研究所
特許権者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
ホウ素ナノ粒子又はホウ素含有ナノ粒子及びその製造方法
開放特許情報
技術分野
化学・薬品
機能
材料・素材の製造
適用製品
表面修飾技術、腫瘍の中性子捕捉療法、治療用薬剤
目的
中性子捕捉療法用薬剤に要求される↑(10)Bの原子数の大幅な増加を図ることで、その効率の大幅な向上を実現する。このために近年盛んに研究が進められてきているナノテクの技術を応用することにより、ホウ素あるいはホウ素含有ナノ粒子の利用を実現する方法の提供。
効果
室温・常圧という穏やかな条件下で特別な雰囲気制御を要せず、高純度な中性子捕捉療法用炭化ホウ素ナノ粒子の作製を可能にするものである。これが可能となれば穏やかな条件下での作製という特徴を用いて、炭化ホウ素ナノ粒子の生成と同時に生体活性物質や薬剤などによるナノ粒子の表面修飾も可能である。また、本技術は、従来、高温を必要とするホウ素の合成と有機あるいは高分子による表面修飾をワンステップあるいは連続的に実現することができる。
技術概要
この技術は、結晶性のホウ素ナノ粒子又はホウ素を10原子%以上含有するホウ素含有ナノ粒子からなり、このナノ粒子の平均粒径が1〜500nmであり、酸素の含有率が5モル%以下であるホウ素ナノ粒子又はホウ素含有ナノ粒子である。前記ホウ素含有ナノ粒子が、結晶性炭化ホウ素粒子である。ホウ素ナノ粒子又はホウ素含有ナノ粒子の表面に、グラファイトの被覆層を備える。ホウ素ナノ粒子又はホウ素含有ナノ粒子の表面のグラファイトの被覆層に導入されたカルボキシル基を備える。ナノ粒子の表面が、有機分子または高分子により修飾されたナノ粒子である。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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