適用製品
多孔質シリカ、モレキュラーシーブ等多孔質材料のポア解析装置に適用する
目的
Ｘｅの超偏極↑１↑２↑９ＸｅＮＭＲによるポア評価装置を提供する。
効果
この装置により、Ｘｅの振る舞いに関する知見を反映した化学シフトと線幅の解析からポアのサイズと分布に関する情報が得られる。
技術概要
各種多孔質シリカを密閉型反応室５内へ搬入する作業腕６と、密閉型反応室５内を真空引きし、水分等の吸着物を除く真空引き手段７と、密閉型反応室５内をＸｅの沸点直上の１６８Ｋ以上に冷却する冷却手段８と、Ｘｅガスを光ポンピング法により超偏極状態にするＸｅガス偏極手段１０と、Ｘｅガス偏極手段１０で超偏極状態にしたＸｅガスを密閉型反応室５内へ大気圧状態で導入するＸｅガス供給手段９と、導入後にその温度で↑１↑２↑９ＸｅＮＭＲスペクトルを時間をおいて複数個測定し、時間依存性を計測するリアルタイム計測手段１１と、平衡に達した後に、測定温度を上昇しながら↑１↑２↑９ＸｅＮＭＲスペクトルを測定し、温度依存性を計測する温度依存性計測手段１２と、この計測手段１２により計測した温度依存性に基づいて↑１↑２↑９Ｘｅ化学シフト、線幅、面積強度を計測する計測手段１３と、及びこれらを制御する制御手段４を備えるポア解析装置１にする（図）。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
