固体メモリ

開放特許情報番号:L2008000780 開放特許情報登録日:2008/2/22 最新更新日:2015/9/17

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2007/8/31
公開日
2009/3/19
出願人
独立行政法人産業技術総合研究所
特許権者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
固体メモリ
開放特許情報
技術分野
電気・電子 情報・通信
機能
材料・素材の製造
適用製品
固体メモリ
目的
相変化の一形態であるカルコゲン化合物の相分離(スピノーダル分離)を利用して、分離により生じる電気抵抗又は光学的特性の相違をデータとして記録・消去する相分離型固体メモリを提供する。
効果
Geを含まないカルコゲン化合物の複数の組成からなる超格子構造を形成することで、Geを含むカルコゲン化合物からなる相変化RAMの特性を大幅に向上することが可能となる。
技術概要
固体メモリであって、物質の相分離に起因して電気特性が変化するものであり、データの記録及び再生材料が相分離により該電気特性に変化が発生する人工的な超格子の積層構造により構成されている固体メモリである。また、積層構造は、アンチモン(Sb)原子を含む合金薄膜とテルル(Te)原子を含む合金薄膜とから構成される固体メモリである。薄膜の膜厚は、0.3nm以上2nm以下である固体メモリである。この構成の基本構造を図1に示し、例えば、Sb↓2Teの場合、Sb層の厚さは約0.9ナノメートル、Sb↓2Te↓3層の厚さは約0.8ナノメートルである。このような人工的な超格子は、スパッタリング法を用いて構成する場合、SbあるいはSb↓2Te↓3から構成された化合物ターゲットを用いて(あるいは単体のターゲットを用いて)、予め時間当りの膜形成速度をスパッタリングのための投入電力パワーに対して測定しておけば、成膜時間とを管理するだけで簡単にこれらの膜からなる超格子構造を構成することが出来る。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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